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就

是

對(duì)

待

工

作

的

態(tài)

度

，


個(gè)產(chǎn)品，

對(duì)待每一

做到極致認(rèn)真

每一個(gè)零件
細(xì)
致

每一組數(shù)據(jù)

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高溫真空無(wú)氧烤箱有哪些優(yōu)點(diǎn)
來(lái)源: | 作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部 | 發(fā)布時(shí)間: 2020-04-15 | 947 次瀏覽 | 分享到:

 高溫真空無(wú)氧烤箱有哪些優(yōu)點(diǎn)

外型尺寸相對(duì)較小，節(jié)約空間

氮?dú)馐褂昧繙p小，能耗低

真空固化效果更佳


高溫真空無(wú)氧烤箱用于鍵合前鍵合材料的真空固化 、ITO 膜退火，BCB/PI 膠固化等工藝。

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子產(chǎn)品、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè)，適用于工廠、高等院校、科研等場(chǎng)所。

1、設(shè)備名稱：

高溫?zé)o氧真空烘箱

2、設(shè)備型號(hào)：

JS-GYZF040

3、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

3.1 尺寸mm(可定制)

350*350*350

500*500*500

600*600*600

3.2 材質(zhì)

內(nèi)箱采用 316L 醫(yī)用級(jí)不銹鋼，外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板靜電噴塑

3.3 溫度范圍

RT+10-500℃ ，常用 450℃以下

3.4 溫度分辨率

0.1℃

3.5 溫度波動(dòng)度

≤±1℃

3.6 操作模式

人機(jī)界面+PLC 控制

3.7 升溫速率

≤10℃/min

3.8 降溫速率

350℃-80℃，≤1.5h

3.9 真空度

≤133pa

高溫真空無(wú)氧烤箱使用環(huán)境

周圍無(wú)強(qiáng)烈電磁場(chǎng)影響，周圍無(wú)強(qiáng)烈震動(dòng)；

潔凈車間，周圍無(wú)高濃度粉塵及腐蝕性物質(zhì)；

無(wú)陽(yáng)光直接照射或其它熱源直接輻射；

周圍無(wú)強(qiáng)烈氣流，當(dāng)周圍空氣需要強(qiáng)制流動(dòng)時(shí)，氣流不應(yīng)在直接吹到箱體上；

設(shè)備應(yīng)放在堅(jiān)固平穩(wěn)的平面上