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光刻膠（烤箱），轉(zhuǎn)印芯片電路的媒介
來(lái)源:凱文蔡說(shuō)材料 | 作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部 | 發(fā)布時(shí)間: 2023-05-11 | 718 次瀏覽 | 分享到:

光刻膠（烤箱），轉(zhuǎn)印芯片電路的媒介

當(dāng)制備好的晶圓經(jīng)過(guò)氧化處理后，便進(jìn)入了芯片前道工藝的光刻工序，大家應(yīng)該都知道光刻機(jī)，如果將光刻機(jī)比作芯片行業(yè)的引擎，那么光刻膠就是助推引擎的燃料。



光刻膠（烤箱）就是圖中橙色的部分，也有人將其稱(chēng)為光阻劑。光刻膠分為正膠和負(fù)膠，正膠經(jīng)過(guò)曝光后會(huì)溶解于顯影液，負(fù)膠則是相反的。按照曝光光源的波長(zhǎng)分類(lèi)，光刻膠分為g線，i線，KrF，ArF以及EUV光刻膠，由左到右，光刻膠對(duì)應(yīng)的曝光波長(zhǎng)逐漸變短，先進(jìn)的EUV光刻膠對(duì)應(yīng)曝光波長(zhǎng)只有13.5nm，可用于10nm以下的芯片制程，但目前EUV光刻機(jī)只有荷蘭ASML能制造。



光刻膠的組分一直是國(guó)外廠商的機(jī)密，很難通過(guò)逆向解析的手段還原。一般而言，光刻膠的組分包括光引發(fā)劑，樹(shù)脂基體，單體以及助劑。當(dāng)光刻膠經(jīng)過(guò)紫外光照射后，發(fā)生一系列的物理化學(xué)變化，電路圖形就從掩膜版上轉(zhuǎn)移到光刻膠上面，經(jīng)過(guò)刻蝕后，晶圓片上就形成了對(duì)應(yīng)的圖案。